絲印工藝問(wèn)題分析及解決

針孔、開(kāi)路、缺口
預(yù)處理板面有雜物或不干凈
墨水問(wèn)題是油脂或雜質(zhì)
過(guò)濾器問(wèn)題過(guò)濾器元件的數(shù)量太大
涂布問(wèn)題涂布輥有異物或雜質(zhì)或問(wèn)題，且輥之間的距離不合適
環(huán)境問(wèn)題沒(méi)有得到很好的凈化
運(yùn)輸問(wèn)題傳動(dòng)或齒輪副板面，或人為劃傷
預(yù)干燥問(wèn)題預(yù)干燥區(qū)有雜質(zhì)污染，或者溫度、通風(fēng)和時(shí)間有問(wèn)題
曝光問(wèn)題曝光不良，底片問(wèn)題
顯影液(溫度、濃度、時(shí)間、噴霧壓力)或設(shè)備劃痕板面
蝕刻問(wèn)題，蝕刻解決問(wèn)題，或者設(shè)備劃傷板面
銅斑(殘留銅)
銅表面預(yù)處理不夠
墨水問(wèn)題包括雜質(zhì)或變質(zhì)
涂布問(wèn)題涂布輥中有異物
傳輸或運(yùn)輸中的污染問(wèn)題
預(yù)干燥問(wèn)題預(yù)干燥區(qū)有雜質(zhì)污染，或者溫度、通風(fēng)和時(shí)間有問(wèn)題
曝光問(wèn)題曝光不良，底片問(wèn)題
顯影液(溫度、濃度、時(shí)間、噴霧壓力)或設(shè)備劃痕板面
蝕刻問(wèn)題，蝕刻解決問(wèn)題，或者設(shè)備劃傷板面
經(jīng)過(guò)不明確的開(kāi)發(fā)和蝕刻，線寬變窄
墨水問(wèn)題惡化
曝光問(wèn)題：曝光轉(zhuǎn)換、過(guò)高的曝光溫度、底片釋放不良以及板面由于印版之間的真空問(wèn)題
顯影時(shí)間短、藥液濃度低、溫度低、噴霧壓力低或噴嘴堵塞